グローバルアドバンストメタルジャパン株式会社 製品カタログ コールドスプレー用高純度タンタル粉末

コールドスプレー用高純度タンタル粉末

積層造形 (AM) コールドスプレー用に GAM Additive によって製造されたタンタル粉末は、最大 6N の純度であり、高い粉末流れ性を有しています。
弊社の独自技術を使用することで、粉砕粉末と球状粉末の酸素レベルは非常に低くなります。粉末粒子には中空粒子がなく、微細付随粉末 (satellite) もありません。

コールドスプレー用タンタル粉末の特徴

• 積層造形（3Dプリンティング）とコールドスプレー用途に用いられる粉砕粉末は6N(99.9999%)までの高純度で、粒子は理論的密度を有します。
• GAM特有の積層造形用途技術により粉砕粉末は低い酸素含有量で、種々の応用に適していることが独立した第三者の科学的研究によって判明しています。
• 粒度分布は応用に合わせて最適化出来ます。
• GAM積層造形部門は、軍需、航空、宇宙、産業機器、エネルギーや化学産業を含め、広範囲な応用向けに粉砕粉末を製造します。
• 現状、純タンタル、タンタル合金(Ta2.5W, Ta10W)、ニオブを含め、色々な種類の粉砕粉末を製造しています。他の種類の金属粉末開発の要求に対しても、GAM積層造形部門は積層造形関連団体との共同開発を行うことにオープンです。